|
УТВЕРЖДЕН приказом Министерства труда и социальной защиты Российской Федерации от 21.03.2022 № 147н |
|||
Оператор прецизионной фотолитографии изделий микроэлектроники |
| |
|
|
||||||||||||||||||||||||||||||||
| |
||||||||||||||||||||||||||||||||||
| Общие сведения |
| |
|
|
||||||||||||||||||||||||||||||||
|
(наименование вида профессиональной деятельности) |
|
Код |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| Основная цель вида профессиональной деятельности: | ||||||||||||||||||||||||||||||||||
| Формирование на поверхности пластин фоторезистивной маски для создания локальных областей в изделиях микроэлектроники | ||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
Группа занятий: |
||||||||||||||||||||||||||||||||||
| |
Квалифицированные рабочие промышленности и рабочие родственных занятий, не входящие в другие группы |
|
Операторы промышленных установок и машин, не входящие в другие группы |
|||||||||||||||||||||||||||||||
|
(код ОКЗ) |
(наименование) |
(код ОКЗ) |
(наименование) |
|||||||||||||||||||||||||||||||
|
Отнесение к видам экономической деятельности: |
||||||||||||||||||||||||||||||||||
| |
Производство элементов электронной аппаратуры |
|||||||||||||||||||||||||||||||||
|
(код ОКВЭД) |
(наименование вида экономической деятельности) |
|||||||||||||||||||||||||||||||||
|
Описание трудовых функций, входящих в профессиональный стандарт (функциональная карта вида профессиональной деятельности) |
|||||
| |
|
||||
| |
|
|
|
|
|
|
A
|
Проведение технологических процессов формирования фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании
|
4
|
Проведение технологического процесса нанесения слоя фоторезиста на поверхность пластин при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании |
A/01.4
|
4
|
|
Совмещение и экспонирование фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании |
A/02.4
|
4
|
|||
|
Проявление фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании |
A/03.4
|
4
|
|||
|
B
|
Проведение технологических процессов формирования фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках
|
4
|
Проведение технологического процесса нанесения слоя фоторезиста, антиотражающего покрытия при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках |
B/01.4
|
4
|
|
Совмещение и экспонирование фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках |
B/02.4
|
4
|
|||
|
Проведение технологического процесса проявления фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках |
B/03.4
|
4
|
|||
|
C
|
Контроль технологических процессов прецизионной фотолитографии при изготовлении изделий микроэлектроники и регулировка параметров при выявлении несоответствий
|
4
|
Контроль параметров фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники |
C/01.4
|
4
|
|
Выполнение действий при выявлении технологических несоответствий, возникающих при проведении процессов фотолитографии при изготовлении изделий микроэлектроники |
C/02.4
|
4
|
|||
|
Сведения об организациях – разработчиках профессионального стандарта |
|
|
Ответственная организация-разработчик |
|
| Фонд инфраструктурных и образовательных программ, город Москва | |
| Генеральный директор Титов Руслан Вадимович | |
| Наименования организаций-разработчиков | |
| |
Акционерное общество «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники», город Москва, город Зеленоград |
| |
Некоммерческое партнерство «Межотраслевое объединение наноиндустрии», город Москва |
| |
Акционерное общество «Микрон», город Москва, город Зеленоград |
| |
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Российская академия народного хозяйства и государственной службы при Президенте Российской Федерации», город Москва |
| Совет по профессиональным квалификациям | |
|
Никакой |
|
Направления обучения
Хотите задать вопрос?
Мы поможем вам сделать верный выбор и проконсультируем по всем условиям обучения и особенностям учебных практик.